Shiseido Sublimic Salon Solutions Off-Clear 500/1800 ml
แชมพูทำความสะอาดเส้นผมอย่างล้ำลึก ช่วยขจัดและลอกพื้นผิวที่สกปรกฝั่งแน่นตกค้างบนเส้นผม ซึ่งแชมพูโดยทั่วไปไม่สามารถล้างออกได้ เพื่อเตรียมความพร้อมสู่การบำรุงเส้นผมในขั้นต่อไป

Water, cocoyl methyl taurine Na, cocamidopropyl betaine, cocamide MEA, lauric acid PG, polyquaternium-10, polyquaternium-11, arginine, thiotaurine, ononis extract, Mg aluminate metasilicate, perilla leaf extract, citric acid, PEG/PPG- 55/28 dimethyl ether, polyglyceryl-10 laurate, EDTA-2Na, BG, sodium citrate, phenoxyethanol, sodium benzoate, fragrance

บีบผลิตภัณฑ์ในปริมาณที่เหมาะสม นวดลงบนเส้นผมด้วยการนวด ล้างออกให้สะอาด